阿斯麦（ASML）CEO表明，公司为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）所规划的光刻改善计划已得到验证，成像作用极佳，分辨率很超卓。报导称，阿斯麦将与客户密切配合，保证High-NA EUV在明年内完成停机时刻降至最低的安稳运转。ASML估计，High-NA EUV将在2027至2028年间完成大规划量产。

  当时，全球光刻机商场仍由ASML(占比超越多半)、佳能(一成左右)、尼康(不到一成)独占，但竞赛逻辑正在改动：就在海外光刻机技能迭代的一起，受制于“光刻机封闭”的我国在需求与方针两层驱动下，也在加快光刻机、光刻胶有关产品国产化的进展。

  作为“十四五”要点开展工业，光刻机已取得方针面大力扶持：建立国家集成电路工业基金，对光刻机研制给予最高50%的补助，要点支撑EUV光源、双工作台等核心技能攻关；光刻机企业所得税率降至10%，进口要害零部件关税减免，研制费用加计扣除比例提升至150%；支撑高校开设光刻机相关专业。

  对此，ASML的CEO供认“我国已经在许多范畴完成自主研制了，假以时日，他们甚至有或许反过来向咱们出口这一些产品。”

  中研普华估计，2025年全球光刻机商场估计打破315亿美元，我国奉献22%的比例，年增速达50%，是全球中等水准的5倍。

  展望后市，2025-2030年，我国光刻机商场将阅历从“技能包围”到“生态重构”的突变。华尔街巨子估计，AI基础设施出资热潮将继续至2030年，规划高达3-4万亿美元。SEMI猜测这将拉动半导体商场在2030年到达1万亿美元。这将直接影响光刻机/光刻胶有关产品商场高增长。

  详细到A股商场，光刻机/光刻胶国产化进程加快，A股相关企业将直接获益于技能打破与商场扩张。可重视技能抢先、方针获益的有突出奉献的公司。（光大证券微资讯）