IT之家 12 月 15 日音讯，ASML 首席执行官 Christophe Fouquet（克里斯托夫・富凯 / 傅恪礼）在公司总部承受彭博社专访时称，他估计 High NA EUV 光刻机将于 2027~2028 年正式投入先进制程的大规模量产作业中

  现在在导入新一代图画化技能上最活跃的是英特尔代工，其支撑 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年正式推出。

  Fouquet 表明，High NA EUV 光刻机现在正由英特尔等客户测验，成果显现新设备的成像和分辨率体现杰出，该企业 2026 年的使命之一是与客户协作将设备的停机时刻最小化。

  Fouquet 还说到，ASML对未来 10~15 年的大致技能道路已有必定的概念。该企业已发动下一代 Hyper NA EUV 的研讨，为本世纪 30 时代的投运打下根底。